EUV光刻机要满足商业化生产的要求，德州仪器TI框架减振系统环境控制系统整机控制系统

我们对照其系统结构来谈谈EUV的难度，光源系统、掩膜合系统、自动对准系统、调平调焦测量系统、掩膜传输系统、投影物镜系统和工作台系统为主要功能系统，我们先来说说光源系统，EUV光刻机要满足商业化生产的要求，中心焦点处的EUV光功率必须提升到115W，德州仪器TI大规模量产的要求更高，EUV功率必须达到250W，EUV功率并不是激光器的直接出光功率，激光器直接出光转换为EUV的光的效率十分低。2005年Powerlase公司研发的一款EUV光源，激光器输出功率为3.6KW，中心焦点处仅得到最低10W、最高20W的EUV，转换率在0.28%~0.56%，按照此转换效率，要达到115W的EUV功率，激光输出功率至少达到41KW，而量产水平至少要达到89.3KW的激光输出功率，这已经接近战术激光武器100KW的指标，当前美军驱逐舰上的激光炮也就是30KW输出级别的，除了能量要求外，光源需要以每秒5万次的频率，以20KW的激光来击打20微米的锡滴，从而产生极紫外光，这好比在飓风中以每秒5万次的频率用乒乓球打中同一只苍蝇两次，投影物镜系统中，上文提到需要高的物镜光学数值孔径，为了达到10nm以下的线宽以及1nm以内的套刻精度，聚焦反射镜必须非常平整，如果将设备中的反射镜想象成地球的大小，那么镜面上的最大误差只有人类头发那么细，工作台系统中，为了控制曝光时间，ASML的EUV光罩承接平台将以20g的加速度加速，且不引起系统振动，请注意是20g，过山车高速俯冲时的加速度大约在4g到5g，F1方程式赛车可以达到6g，由此就有了辅助系统：框架减振系统、环境控制系统、整机控制系统、整机软件系统、环境控制系统、硅片传输系统。