光刻胶会连带将覆盖其上的淀积物一并去除，德州仪器TI剥离工艺在晶圆表面进行淀积

剥离工艺在晶圆表面进行淀积，淀积物覆盖整个品圆表面并进入孔隙中。然后，将晶圆表面光刻胶除去，光刻胶会连带将覆盖其上的淀积物一并去除，这样就只留下了孔隙中的淀积物，即所需的图形。通常去除步骤会伴随超声波激励，这样有助于在光刻胶边缘的淀积膜形成清晰的断裂界线。光刻胶和淀积膜去除后，在晶圆表面留下了希望的图形，自对准结构过刻蚀会使两个结构的距离比预想的近。而工艺制成中，不可避免地存在过刻蚀，所以各个结构的对准变得至关重要。一种解决办法就是自对准结构(self-alignedstructure)，比如MOS器件的栅极。定义栅极的同时也定义了源极或漏极，打开源、漏区域是简单的刻蚀去除氧化物的过程,源或漏区域薄的氧化层保证了栅极上的氧化层不会被刻蚀光。接下来的离子注入将离子注入在栅极附近源区或漏区。使用不同的氧化层厚度和浸没式刻蚀的这种基本技术可以定义或刻蚀其他结构。该设计使用栅极作为注入阻挡层。自对准硅栅极(SAG)结构刻蚀轮廓控制各向异性刻蚀的概念用来说明形成竖直(或接近竖直)刻蚀侧墙的一种方法。德州仪器TI刻蚀层实际上是多层不同材料叠在一起时，该问题变得更复杂，使用选择性比较差的刻蚀剂会形成宽度不同的层面，多层刻蚀轮廓控制必须综合考虑刻蚀剂化学成分、功率水平、系统压力和设计，光刻机，因其高冷的技术而鲜为人知，法国画家达盖尔发明的银版摄影技术正式问世，于是世界上诞生了第一台可携式木箱照相机，这个形态笨重，色彩单一，结构复杂的照相机注定要改变世界。达盖尔把一块研磨过的银板表面涂上碘化银的感光膜，在自制的照相机内让它经由透镜投射光影曝光，再用设计的汞显影箱以汞蒸气显现影像出来，然后置于食盐水（后改用大苏打水）中定影，形成永久性的影像照片。于是可长期保存并成像清晰的摄影技术实现了，该技术的实现似乎是在默默等待着另一个技术的诞生。