化学机械抛光使双大马士革图形化和铜金属化工艺，德州仪器TI化学机械抛光设备

如果想成功地完成化学机械抛光工艺就需要有成熟的系统设备，生产用的设备包括晶圆传递机械手、在线测量和洁净度监测装置。各种终结探测系统被用来监控某一种金属磨尽了或达到指定的研磨厚度的信号。化学机械抛光后清洁单元包括在主机室内或通过传递机械手与主机室连接，德州仪器T目标是实现“干进，干出”工艺，化学机械光系统，化学机械抛光化学机械抛光是一步关键的平坦化工艺,它需要平衡高度集成化和许多工艺参数。主要参数是:研磨垫的构成、研磨垫的压力、研磨垫旋转速度、机台旋转速度、料浆的流速、磨料浆的化学成分、磨料浆的材料选择。加之对光刻工艺平整度的改善,化学机械抛光使双大马士革图形化和铜金属化工艺得以实现，回流一些器件设计使用一层或多层硬平整化涂层。通常淀积具有4%~5%硼掺杂的二氧化硅，称为硼硅玻璃(BSG)。由于硼的存在使二氧化硅在相对低的温度(小于500℃)下液化流动，形成平坦的表面，另一种硬平坦化层为旋转涂敷玻璃层(SOG)。玻璃层为二氧化硅和一种易挥发溶剂的混合体，旋转涂敷在晶圆表面后，烘焙玻璃膜,留下平坦的二氧化硅膜。旋转时玻璃是易碎的，有时在其中添加1%~10%的碳来增加抗裂性。