光刻机行业是一个充满竞争的商业领域，德州仪器TI光刻机是商业化设备

德州仪器TI浸没式系统并不是把wafer泡在水里这么简单，除了要求水的纯度之外，这里牵涉到最复杂的流体运动原理，难，实在太难了，笔者有幸去参观过国内同类企业，感叹科技工作者的伟大。193nm浸没式光刻机目前最新锐的型号是ASML在2018年推出的NXT 1980Di，对，就是闹的沸沸扬扬的武汉弘芯那台被抵押的号称“7nm”的光刻机，其实国内远不止一台1980，只是武汉这台太出名了而已。光刻机是商业化设备。光刻机和氢弹最大的区别是，氢弹可以不计成本， 搞出来就行，甚至在很长的时间内，也没有太多的技术更新和迭代，所以近几十年来，几个核大国再也没有进行相关的核试验，氢弹对国家而言是一个战略威慑作用，有就行了。但是光刻机不行，必须不断升级技术保持竞争力，同时不断满足客户的新需求，所以几乎每年都有新型号产品推出。193nm浸没式的光刻机现在最新型号是NXT 1980Di，后面还有NXT2050i等。EUV光刻机也从 最初的NXE 3100、到NXE 3300、NXE 3400B、NXE 3400C，之后马上要推出NXE 3500型了，未来还有EXE 5000型。换句话说，光刻机行业是一个充满竞争的商业领域，必须不断拿出更富有竞争力的产品，不断进行技术突破和更新升级。一旦一步被竞争对手拉开差距，就变成步步追不上，差距会越拉越大，久而久之，这个行业内其他公司就活不下去，只剩老大，当年GCA，也好尼康也好，都曾经是不可一世的光刻机霸主，但是在技术升级和需求变化之际都没能把握机会，从而导致被竞争对手超越，最终沦为边角料。光刻机造出来是一会事，造出来好用是一会事，造出来好用且符合客户要求，能让客户主动下单让公司赚钱又是另外一会事。仅从造出来的角度而言，中国是有能力做到的， 但是产品竞争力不及竞争对手话，是卖不出去的，卖不出去的产品，不符合客户需求的光刻机等于没有。并不能因为国产光刻机顶着“国产”两个字，就必须要让国内各大晶圆工厂买单，晶圆工厂也必须对自己的投片客户负责。