光刻工艺很大程度上也决定了芯片的最小特征尺寸，德州仪器TI光刻机是半导体核心设备

一般工程师们习惯用光刻机的特性的单词，比如曝光式Aligner，接触式contact ，步进式stepper，扫描式sacnner，以及现在的浸没式Immersion，来称呼各类型的光刻机，这种好处是一看就知道你说的是具体什么型号的光刻机，坏处是外行人一脸懵逼。光刻机是半导体核心设备，光刻工艺很大程度上也决定了芯片的最小特征尺寸，也就是普通人所以理解的14nm，7nm工艺。历史上，光刻机的诞生和进步和集成电路图形化工艺的诞生和技术提高有着密切的关系，这里不得不提一个重要的人物——赫尔尼。集成电路平面工艺之父——天才少年赫尔尼（Jean Hoerni）硅谷历史上有著名的“八叛徒”，赫尔尼也是其中之一，他也是仙童的创始人之一。此外他还和“八叛徒”中的Jay Last和Sheldon Roberts 一起与1961年创立了， Amelco公司，也就是现在Teledyne公司的前身。1967年他还创办了Intersil，一家首屈一指的模拟电路公司，2017年这家公司被日本瑞萨收购，名副其实的硅谷传奇人物。1958年9月12日，基尔比研制出世界上第一块集成电路，成功地实现了把电子器件集成在一块半导体材料上的构想，并通过了德州仪器公司高层管理人员的检查。这一天开始，集成电路取代了单个晶体管，为开发电子产品的各种功能铺平了道路，并且大幅度降低了成本，德州仪器TI微处理器的出现成为了可能，开创了电子技术历史的新纪元。赫尔尼发明了一种平面工艺，一种叫做光学蚀刻的处理方法，这种方法有些类似于利用底片冲洗照片的过程。开始，他用的是一片锗。然后他在上面喷洒上一层叫做光阻剂的物质。如果你把光照在上面，光阻剂就会变得坚硬，然后就可以用一种特殊的化学药品清除掉没有被光照射到的光阻剂。所以，赫尔尼就创造了一个光罩，它就像一张底片，上面有一簇小孔，用来过滤掉不清洁的东西，然后让它在光线中翻动。德州仪器TI在化学洗涤之后，金属板上只要是留下光阻剂的地方，杂质就不会散落到下面，赫尔尼跟诺伊斯开会的时候，提交了这个工艺的最新版本，会后几天，诺伊斯就记下了自己对平面集成电路的想法。这个工艺成为了1962年颁发的专利3025589《制造半导体器件的方法》的基础。