改进刻蚀工艺在光刻胶中形成正确的图形是非常关键的一步，德州仪器TI反差增强层工艺流程

在曝光循环中，反差增强层变白(透明的)，从而允许光线通过它进人下面的光刻胶。反差增强层在变成透明物质前，首先对高强度光线响应，实际上在变成透明物质前，等于保存了低强度光线。结果就是光刻胶接受均匀的高强度能量照射，使得分辨率提高。可以将反差增强层想象成双层光刻胶系统中的上层光刻胶，在这上面薄层中形成图形，反差增强层在显影前被一种喷涂化学试剂除去，然后对晶圆进行常规的显影。具有1.0um分辨能力的正胶通过反差增强层可以做出0.5um的图形，染色光刻胶在光刻胶生产过程中可以加入各种各样的染色剂。一种染色剂在曝光时可以具有一种或几种作用。一种作用可能是吸收辐射光线，借此可以削弱反射光的影响,将驻波效应减到最小。另一种作用可以改变显影时光刻胶聚合物的分解率。这一作用可以产生清晰的显影线条(增大反差)。染色剂的一个重要作用是消除淀积材料穿过表面台阶细线条处产生的凹口对光刻胶添加染色剂会增加5%~50%的曝光时间，德州仪器TI改进刻蚀工艺在光刻胶中形成正确的图形是非常关键的一步，但对于品圆上的图形定义，只有这一步是不够的。我们还需精确地控制刻蚀工艺。目前有几种技术可以帮助刻蚀图形定义，剥离工艺在表面层中的图形尺寸最终是由曝光和刻蚀工艺共同决定的。在工艺中,有钻蚀(光刻胶支撑)的地方是个问题，例如铝刻蚀，尺寸变化的刻蚀成分可能是决定性的因素。一种可以消除刻蚀变差的方法称为剥离工艺(见下图)。在这一工艺中，晶圆经过显影过程，在需要淀积图形的地方留下孔隙。通过调整曝光工艺和显影工艺，使孔隙侧壁产生负斜面。